任職要求：
1、微電子、電子科學與技術、材料物理與化學等理工專業本科及以上學歷；優秀應屆碩士亦可考慮；
2、精通蝕刻相關工藝原理，能夠熟練使用ICP干法蝕刻設備、離子清洗設備、剝離設備、濕法清洗機臺等相關設備；
3、能夠使用臺階儀、顯微鏡等測量設備；
4、3年以上半導體廠刻蝕工作經驗，或2年以上半導體芯片制造廠刻蝕工程師工作經驗；
5、具有良好的團隊合作意識和溝通能力；
6、熟練應用日常辦公軟件；
7、具備一定工程管理思維邏輯，熟悉各類工程分析方法，能夠獨立完成PPT總結分析報告。